廣元回轉(zhuǎn)窯承包商
發(fā)布時(shí)間:2024-10-11 01:22:33廣元回轉(zhuǎn)窯承包商
它的技術(shù)性能和運(yùn)轉(zhuǎn)情況,在很大程度上決定著企業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量、產(chǎn)量和成本。“只要大窯轉(zhuǎn),就有千千萬(wàn)”這句民謠就是對(duì)生產(chǎn)中回轉(zhuǎn)窯重要程度的生動(dòng)描述。在回轉(zhuǎn)窯的應(yīng)用領(lǐng)域,水泥工業(yè)中的數(shù)量最多。水泥的整個(gè)生產(chǎn)工藝概括為“兩磨一燒”,其中“一燒”就是把經(jīng)過(guò)粉磨配制好的生料。回轉(zhuǎn)窯的高溫作用下燒成為熟料的工藝過(guò)程。因此,回轉(zhuǎn)窯是水泥生產(chǎn)中的主機(jī),俗稱(chēng)水泥工廠(chǎng)的“心臟”。建材行業(yè)中,回轉(zhuǎn)窯除鍛燒水泥熟料外,還用來(lái)鍛燒粘土、石灰石和進(jìn)行礦渣烘干等;耐火材料生產(chǎn)中,采用回轉(zhuǎn)窯鍛燒原料,使其尺寸穩(wěn)定、強(qiáng)度增加,再加工成型。
廣元回轉(zhuǎn)窯承包商
1、軸承擔(dān)負(fù)機(jī)器的全部負(fù)荷,所以良好的潤(rùn)滑對(duì)軸承壽命有很大的關(guān)系,它直接影響到機(jī)器的使用壽命和運(yùn)轉(zhuǎn)率,因而要求注入的潤(rùn)滑油必須清潔,密封必須良好,本機(jī)器的主要注油處(1)轉(zhuǎn)動(dòng)軸承(2)軋輥軸承(3)所有齒輪(4)活動(dòng)軸承、滑動(dòng)平面.2、新安裝的輪箍容易發(fā)生松動(dòng)必須經(jīng)常進(jìn)行檢查.3、注意機(jī)器各部位的工作是否正常.4、注意檢查易磨損件的磨損程度,隨時(shí)注意更換被磨損的零件.5、放活動(dòng)裝置的底架平面,應(yīng)出去灰塵等物以免機(jī)器遇到不能破碎的物料時(shí)活動(dòng)軸承不能在底架上移動(dòng),以致發(fā)生嚴(yán)重事故.6、軸承油溫升高,應(yīng)立即停車(chē)檢查原因加以消除。7、轉(zhuǎn)動(dòng)齒輪在運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)若有沖擊聲應(yīng)立即停車(chē)檢查,并消除。
廣元回轉(zhuǎn)窯承包商
環(huán)冷機(jī)臺(tái)車(chē)的運(yùn)動(dòng)是靠摩擦輪帶動(dòng)回轉(zhuǎn)框架側(cè)軌及回轉(zhuǎn)框架來(lái)實(shí)現(xiàn)的。回轉(zhuǎn)框架上的摩擦板在與摩擦輪接觸處的速度方向(即摩擦輪在該處的切線(xiàn))與摩擦輪軸線(xiàn)垂直,當(dāng)摩擦輪軸線(xiàn)通過(guò)內(nèi)、外水平圓形軌道的圓心時(shí),則臺(tái)車(chē)的回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)是繞該圓心進(jìn)行的,否則圓周運(yùn)動(dòng)圓心和固定圓心不重合,此時(shí)即存在跑偏現(xiàn)象。調(diào)整摩擦輪安裝位置,使其軸線(xiàn)通過(guò)內(nèi)、外水平圓形軌道的圓心即可修正上述原因造成的跑偏。然而,因?yàn)榄h(huán)冷機(jī)回轉(zhuǎn)半徑大,且摩擦輪與理論圓心之間距離大、障礙物多,故無(wú)法按測(cè)量和理論數(shù)據(jù)進(jìn)行調(diào)整,只能根據(jù)實(shí)際運(yùn)行方向與理想運(yùn)行方向的偏差進(jìn)行調(diào)整,邊調(diào)整邊觀(guān)察,直至達(dá)到理想運(yùn)行狀態(tài)。
廣元回轉(zhuǎn)窯承包商
為滿(mǎn)足現(xiàn)代化活性石灰預(yù)分解回轉(zhuǎn)窯生產(chǎn)線(xiàn)的工藝要求,保證工藝設(shè)備可靠運(yùn)行,穩(wěn)定工藝參數(shù),保證產(chǎn)品質(zhì)量,節(jié)約能源,提高生產(chǎn)線(xiàn)的運(yùn)轉(zhuǎn)率,全線(xiàn)采用技術(shù)先進(jìn)全過(guò)程控制,在PLC控制的基礎(chǔ)上增加DCS控制,對(duì)主生產(chǎn)線(xiàn)集中監(jiān)視、操作和分散控制,控制回轉(zhuǎn)窯操作系統(tǒng)提高產(chǎn)品質(zhì)量降低消耗。提高電控設(shè)備的可靠性和可維護(hù)性,以實(shí)現(xiàn)控制、監(jiān)視、操作的現(xiàn)代化。產(chǎn)品質(zhì)量CaO≥93% , MgO≤4.5%, SiO2≤1.0%, P≤0.01%, S≤0.025%, 灼減≤3 ,活性度≥350ml~380ml,生燒≤1.5% ,過(guò)燒≤1.5% 。